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一种高量子效率图像传感器像素结构及其制作方法,该像素基于背照式工艺,对钳位光电二极管n型区结构进行优化,形成“袋状”耗尽区,延伸并覆盖硅衬底背面感光区域,扩大耗尽区面积,提高光生电子的收集效率;同时,在钳位光电二极管p+型钳位层上方引入金属反射层,对部分由硅衬底背面入射,经过耗尽区未被完全吸收,从硅衬底正面出射的光子进行光学反射,使其从硅衬底正面再次入射并重新被耗尽区吸收,提高入射光子被吸收的效率。通过两种方法的共同作用,有效提高入射光子转化为光生电子的效率和光生电子被收集的效率,进一步提高像素
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112397532 A
(43)申请公布日
2021.02.23
(21)申请号 20191
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