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本发明提供一种等离子体处理装置，该等离子体处理装置包含真空反应腔室，内部有处理基片的等离子体；该反应腔室底部设有承载基片的基座；在基座的外缘环绕设有聚焦环；在聚焦环的下方设置有第一绝缘环，该第一绝缘环环绕基座；在第一绝缘环的内部或下方设置有加热器；在第一绝缘环的下方设置有屏蔽环，该屏蔽环接地并环绕基座；在屏蔽环的内部设置有电路接线，该电路接线用于向所述加热器提供电能。本发明对聚焦环的加热更均匀，实现更准确精细快速灵敏的温度控制和调节，同时线路设计简单可靠，可有效隔绝射频干扰。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112435912 A
(43)申请公布日
2021.03.02
(21)申请号 20191
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