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原位等离子体工艺制程监测系统及其监测方法.pdfVIP

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  • 2023-05-29 发布于四川
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原位等离子体工艺制程监测系统及其监测方法.pdf

    本发明公开了一种原位等离子体工艺制程监测系统及其监测方法，针对不同材质的刻蚀膜层所含的元素，根据NIST数据库获取各元素对应特征谱线的标准波长和强度信息以建立不同刻蚀膜层所对应的模拟光谱库，并将测得的等离子体光谱与模拟光谱库内的模拟光谱初步匹配。对匹配成功的光谱线，从测得的等离子体光谱中提取像素‑强度信息，对峰位拟合得到峰位中心像素值，结合模拟光谱库中已匹配的模拟光谱的标准波长值拟合得到新的光谱仪波长与像素之间的色散关系函数，最后根据新的色散关系函数对反射光谱进行处理以获得准确的反射光波长，进而

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115831796 A (43)申请公布日 2023.03.21 (21)申请号 202211623712.X (22)申请日 2022.12.16 (71)申请人 上海复享光学股份有限公司 地址 2

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