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本发明涉及一种奥美拉唑工艺杂质其制备方法,所述奥美拉唑工艺杂质具有式I所示结构:其中,X‑为CH3SO4‑或者HSO4‑。该奥美拉唑工艺杂质的分离、确证与制备有利于奥美拉唑中间体以及奥美拉唑原料药的杂质分析,有利于奥美拉唑中间体以及奥美拉唑原料药的合成工艺的改进,从而有助于进一步完善奥美拉唑原料药的质量标准和控制,提高该原料药的质量水平,为人民群众用药安全提供保障。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112409251 B
(45)授权公告日 2022.07.05
(21)申请号 202011355372.8 CN 111303018 A,2020.06.19
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