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2023-05-29 发布于四川
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基片处理系统中的输送方法.pdf

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本发明提供一种基片处理系统中的输送方法。本发明的基片处理系统中的输送方法包括托盘送入步骤、测量步骤、调节步骤、基片载置步骤和托盘送出步骤。在托盘送入步骤中，将能够载置半导体基片和边缘环的托盘送入设置有载置台的载置室。在测量步骤中，测量载置于托盘的边缘环的位置以获取边缘环的位置信息。在调节步骤中，基于所获得的位置信息，调节半导体基片的位置。在基片载置步骤中，将位置调节后的半导体基片载置在托盘。在托盘送出步骤中，将载置有半导体基片和边缘环的托盘从上述载置室送出。本发明能够相对于边缘环将半导体基片配置

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112397369 A (43)申请公布日 2021.02.23 (21)申请号 202010766400.9 H01L 21/68 (2006.01) (22)申请日 2

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