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- 2023-05-29 发布于四川
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公开了在低温下热处理工件的系统和方法。在一个示例实现方式中,热处理设备包括具有工件支撑件的处理腔室。该工件支撑件可以被配置为用于支撑工件。该设备可以包括一个或多个热源,该一个或多个热源被配置为发射第一波长范围内的电磁辐射以将该工件加热至处理温度。该处理温度可以在约50℃至150℃的范围内。该设备可以包括一个或多个传感器,这些传感器被配置为用于当该工件处于该处理温度时获得对第二波长范围内的电磁辐射的测量。该第二波长范围可以不同于该第一波长范围。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112437975 A
(43)申请公布日 2021.03.02
(21)申请号 201980044888.X M ·利贝雷尔 P ·J ·蒂曼斯
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