一种大口径光学元件的等离子体刻蚀方法.pdfVIP

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2023-05-30 发布于四川
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一种大口径光学元件的等离子体刻蚀方法.pdf

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本发明公开一种大口径光学元件的等离子体刻蚀方法，该方法借鉴了射频磁控溅射镀膜技术中的射频反常辉光放电方式，可形成高密度大面积的等离子体，利用该装置耦合正交磁场的定向移动，可驱动等离子体产生定向的运动，实现光学元件表面由线及面的加工。引入活性气体被电离激发，利用真空系统固有的气体分配器所产生的流导场，引导自由基作用于工件表面，亦会带来材料刻蚀效率的提高。而通过射频电场的参数（如功率等），磁场的参数（如各磁极大小的变化，包括平衡和非平衡模式以及磁极定向移动的速度等），以及气体相关参数（包括气体的种类

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112447473 B (45)授权公告日 2022.08.02 (21)申请号 201910807901.4 CN 103831675 A,2014.06.04 (22)申请日 20