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本发明公开了一种高质量四结空间太阳电池及其制备方法,包括Ge衬底,在Ge衬底上按照层状叠加结构由下至上依次设有Ge子电池、GaInP成核层、GaInAs缓冲层、第一隧穿结、组分渐变缓冲层、DBR反射层、GaInAs子电池、第二隧穿结、AlGaInAs子电池、第三隧穿结、AlGaInP子电池;AlGaInAs子电池和AlGaInP子电池的基区与发射区之间形成耗尽层,基区和发射区为带隙渐变结构,通过在含Al子电池中引入带隙渐变结构,提高了耗尽层的材料质量,降低光生载流子主要产生区域的少子复合速率,提
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112447868 B
(45)授权公告日 2022.05.20
(21)申请号 202011331408.9 H01L 31/0352 (2006.01)
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