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本发明公开了一种半导体离子刻蚀清洗方法,包括第一离子刻蚀清洗和第二离子刻蚀清洗;第一离子刻蚀清洗的工艺参数为:腔室压力为30mT,功率为1000W~1200W,通入气体为氩气或者氮气,使用氩气时,气体流量为600sccm,使用氮气时,气体流量为500sccm,时间为35~55秒;第二离子刻蚀清洗的工艺参数为:腔室压力为20mT,功率为1000W,通入气体为氧气或氮气,使用氧气时,气体流量为50sccm,使用氮气时,气体流量为100~120sccm,时间为60~80秒。本发明所述方法通过针对不同粒
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112447496 A
(43)申请公布日
2021.03.05
(21)申请号 20191
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