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本发明涉及化学机械研磨工艺异常报警处理方法，包括S1：开始化学机械研磨工艺；S2：化学机械研磨装置发出故障警报；S3：化学机械研磨工艺进入抛光清洗工艺，以去除晶圆表面及研磨垫上的副产物；以及S4：在步骤S3之后进入晶圆被研磨头压在研磨垫上面或研磨头保持晶圆转45°到清洗装置以进行晶圆清洗工艺，以提高晶圆良率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112454159 A
(43)申请公布日 2021.03.09
(21)申请号 202011350796.5
(22)申请日 2020.11.26
(71)申请人 华虹半导体（无锡）有限公司
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