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本发明公开了一种晶圆加工用湿法清洗设备,其结构包括支撑架、控制面板、水泵、清洗装置,支撑架右下端嵌固安装有控制面板,并且支撑架中部内侧表面与清洗装置外侧表面相焊接,通过晶圆片下端与夹持板上端进行挤压抵触,接着通过顶簧的回弹使得两侧的夹持板将晶圆片外侧两表面进行贴紧,晶圆竖直装夹放置,减少颗粒物下沉与晶圆片的接触面积,同时通过外框将下沉的颗粒往外侧进行散开,防止清理后的颗粒下沉再次与晶圆发生吸附,通过水流对连动板进行挤压,通过拉簧的形变和复位,从而使得连动板进行摆动,提高水压,从喷嘴内部喷出,形成
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112435944 A
(43)申请公布日 2021.03.02
(21)申请号 202011431938.0
(22)申请日 2020.12.09
(71)申请人 林斌发
地址 230
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