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本申请实施例公开了一种减反膜及其制备方法，该减反膜包括基底、微结构层，微结构层设置于基底上，微结构层包括多个相互间隔设置的微结构，相邻微结构之间设置有凹孔，其中，凹孔的孔径及深度的范围为20nm至300nm；通过将凹孔的孔径及深度均设置为小于光波长，使光波无法识别微结构，于是折射率沿微结构垂直方向呈现梯度变化，形成折射率过渡层，从而减少折射率急剧变化所造成的反射现象，缓解了现有显示装置存在环境对比度低的技术问题。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115793111 A
(43)申请公布日 2023.03.14
(21)申请号 202211504467.0
(22)申请日 2022.11.28
(71)申请人 深圳市华星光电半导体显示技术有
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