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本发明公开了一种光刻机静电消除装置，属于半导体静电消除领域，应用于晶圆传输过程中去除晶圆表面的静电，包括：预对准机构，预对准机构具有一预对准台；传输通道，传输通道内设有一导轨，导轨的一端固定连接于预对准台的一侧；晶圆传输载台，晶圆传输载台设置于导轨上，用于放置晶圆，并沿着导轨的方向传输；工作台，设置于传输通道的上方；静电消除装置，固定设置于工作台上，且位于传输通道的下方。本技术方案具有如下优点或有益效果：通过将静电消除装置设置于光刻机的工作台上，且静电消除装置位于晶圆传输载台的上方，在晶圆传输过
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112490166 A
(43)申请公布日 2021.03.12
(21)申请号 202011488399.4
(22)申请日 2020.12.16
(71)申请人 上海图双精密装备有限公司
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