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本发明公开了一种HfO2基铁电电容器及其制备方法和HfO2基铁电存储器,属于微电子技术领域,通过在铁电电容的介质层和上电极(TiN)之间插入热膨胀系数小于TiN的Al2O3插层,达到增大铁电存储器存储窗口的目的。本发明HfO2基铁电电容器,从下到上包括衬底层(1)、下电极(2)、介质层(3)、Al2O3插层(4)、上电极(5)和金属保护层(6)。本发明可提高存储窗口大小,有效防止信息误读,从而提高存储器的可靠性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111668372 A
(43)申请公布日
2020.09
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