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用于生长大尺寸外延片的石墨盘及其使用方法.pdfVIP

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  • 2023-05-31 发布于四川
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用于生长大尺寸外延片的石墨盘及其使用方法.pdf

    本发明公开了一种用于生长大尺寸外延片的石墨盘及其使用方法，石墨盘包括石墨盘基座，石墨盘基座的中心区域设有放置区，该放置区的边缘位置设有若干周期性斜面凹槽和若干周期性凸起，该周期性凸起和周期性斜面凹槽沿所述放置区的外形轮廓线排列。本发明通过在放置区的边缘位置设有周期性斜面凹槽和周期性凸起,可显著减少晶圆边缘与石墨盘的粘接，大大提高尤其是厚膜外延片生长完后取片的便捷性，降低晶圆边缘的损伤；同时周期性斜面凹槽结构不仅可以增加边缘气流的流动性，减少甚至消除气体湍流，让晶圆的径向温场更均匀，提高了外延片径

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112501688 B (45)授权公告日 2022.03.15 (21)申请号 202011189588.1 (51)Int.Cl.

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