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本发明公开了一种加热器、加热方法及等离子处理器，等离子体处理器包含反应腔，反应腔内设置静电夹盘，静电夹盘下方设置基座，反应腔上部设有气体喷淋装置，气体喷淋装置与气体供应装置相连，加热器用于控制等离子处理器中的任意待加热部件的温度，加热器包含：绝缘结构，其内部开设有内孔，并在内孔壁上预加工出目标结构的导向槽；加热结构，设置在与加热结构相匹配的导向槽内，通过导向槽将加热结构导向为目标结构。本发明通过在氧化镁柱的内孔中预先加工出均匀的导向槽，很好地导向螺旋状的加热丝，使得加热丝均匀地分布在内孔中的导向
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112543520 A
(43)申请公布日
2021.03.23
(21)申请号 20191
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