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本发明公开了一种基于磁性磨粒流的光学玻璃抛光方法及其装置，在聚合物胶体中加入磁性磨粒、加工磨粒和分散剂，制备具有高浓度磁性磨粒的抛光液；其中，磁性磨粒占抛光液的质量分数为75％～95％，聚合物胶体的质量分数为10％～20％，加工磨粒的质量分数为1％～5％，分散剂的质量分数为0.5％～2％。同时公开了一种实现上述抛光方法的装置，在抛光过程中，利用抛光装置控制光学玻璃零件与抛光液之间做相对运动，采用磁场发生器给所述抛光液施加磁场，调节抛光液中磨粒的聚集度，增加零件与磨粒之间的摩擦力，进而实现磨粒对零
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112536649 A
(43)申请公布日 2021.03.23
(21)申请号 202011517871.2
(22)申请日 2020.12.21
(71)申请人 浙江师范大学
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