低应力纵向抛光装置及其抛光方法.pdfVIP

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2023-06-01 发布于四川
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低应力纵向抛光装置及其抛光方法.pdf

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本发明公开了一种低应力纵向抛光装置及其抛光方法，包括用于夹持待抛光试样的床头组件和尾座组件，以及设于两者之间并可在两者之间来回滑动的摆臂摩擦抛光运动组件，该摆臂摩擦抛光运动组件包括垂直于试样长度方向上下旋转的摆臂及设于该摆臂一侧、由砂带安装盘和砂带回收盘组合而成的抛光组件，所述床头组件驱动试样转动，抛光组件对其进行抛光。本发明的抛光装置通过摆臂摩擦抛光运动组件的设置，进而能够更优更平滑地对试样进行抛光，且采用上下旋转的摆臂，有效避免了试样在旋转时与砂带的接触，提高了抛光的效率和质量。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112548818 A (43)申请公布日 2021.03.26 (21)申请号 202011259442.X B24B 55/04 (2006.01) (22)申请日 2

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