原创力文档- 1、本文档共40页，其中可免费阅读39页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
描述了具有金属氧化物帽盖结构的有源栅极上方接触部。在示例中，一种集成电路结构包括衬底上方的多个栅极结构，栅极结构中的每个在其上包括栅极绝缘层。多个导电沟槽接触结构与多个栅极结构交替，导电沟槽接触结构中的每个在其上包括金属氧化物帽盖结构。层间电介质材料在多个栅极结构上方并且在多个导电沟槽接触结构上方。开口在层间电介质材料中并且在多个栅极结构中的对应的一个的栅极绝缘层中。导电过孔在开口中，导电过孔与多个栅极结构中的对应的一个直接接触，并且导电过孔在金属氧化物帽盖结构中的一个或多个的一部分上。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112542455 A
(43)申请公布日
2021.03.23
(21)申请号 20201
文档评论（0）