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本发明公开了一种具量子点的像素基板及其制作方法,其中该具量子点的像素基板包含:一透明基板;一黑矩阵层,形成于该透明基板的表面,定义数个像素空间;数个量子点胶层,分别形成于该像素空间中;其中,该黑矩阵层由负型光阻材料硬化制作而成,且与该透明基板形成一小于90度的一夹角,而使该些像素空间构成一倒梯形的碗状结构。本发明具量子点的像素基板及其制作方法运用曝光显影制程来制作具量子点的像素基板,借以制作出高精度的黑矩阵层,让量子点可准确地灌注于由黑矩阵层所定义的像素空间中,进而得到制程简易,高分辨率的下一代
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112542098 A
(43)申请公布日
2021.03.23
(21)申请号 20191
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