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本发明公开了一种激光调Q装置和激光调制装置，其中，激光调Q装置包括依序设置的泵浦光源、准直聚焦系统、增益介质、游标标准具和腔镜；游标标准具为具有电光效应的电光材料成型；当泵浦光源发出的泵浦光经准直聚焦系统准直后，聚焦射入到由增益介质、游标标准具和腔镜之间形成的激光腔中调制，并最终从腔镜输出，本方案采用具有电光效应的电光材料（例如电光晶体或透明电光陶瓷）成型游标标准具（VernierEtalon），对游标标准具的其中一个电光标准具施加周期性调制电压,使之透过曲线为一个在特定透射波光下的周期性序列
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112542762 A
(43)申请公布日
2021.03.23
(21)申请号 20191
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