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一种高选择性的蚀刻液.pdfVIP

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  • 2023-06-02 发布于四川
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一种高选择性的蚀刻液.pdf

    本发明公开了一种高选择性的蚀刻液，用于高选择性的蚀刻热法二氧化硅和氮化硅，主要成分包括氢氟酸、氟化氢铵、活性剂以及超纯水。本发明的蚀刻液中氢氟酸起到蚀刻的作用；氟化氢铵用于提供HF2‑，提高二氧化硅的蚀刻速率；活性剂用于降低溶液表面张力，同时在氮化硅薄膜表面形成一层保护膜，起到降低氮化硅蚀刻速率的作用。本发明所述的蚀刻液表面张力低，同时对热法二氧化硅和氮化硅具有高选择性，蚀刻速率选择比≥80；且蚀刻后二氧化硅和氮化硅薄膜表面均匀平整，粗糙度Ra

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112608754 B (45)授权公告日 2021.12.28 (21)申请号 202011395563.7 (56)对比文件 (22)申请日 2020.12.03

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