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一种自下而上的原子气室制造装置及方法.pdfVIP

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  • 2023-06-02 发布于四川
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一种自下而上的原子气室制造装置及方法.pdf

    本发明属于光学精密制造领域，涉及一种自下而上的原子气室制造装置和制造方法。装置由真空腔、抽气管路、进气管路、放电极板组、绝缘支架、气室、激光器、碱金属源和真空规组成。利用本装置自下而上制造原子气室，能够制备各种气压配比需求的气室，有助于实现订制化制备；减少了气室内壁杂质吸附的弊端，降低了不可控风险。本装置集成度高、制备效率高、二次开发空间大，有利于加速原子气室的技术迭代和核磁共振陀螺、原子钟、磁强计等关键技术的跨代发展。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115790559 A (43)申请公布日 2023.03.14 (21)申请号 202211410601.0 (22)申请日 2022.11.11 (71)申请人 中国航空工业集团公司西安飞行自

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