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本发明公开了一种循环式去污超声波清洗装置，包括工作箱、输送机构和水循环过滤机构，所述工作箱通过隔板分割为六个清洗腔和循环腔，所述清洗腔的底部设置有超声振动机构，位于最右端的所述清洗腔底部没有设置底板，其下端设置有上料机构，所述上料机构包括上料架和装料箱，所述上料架与工作箱固定连接，所述上料架内设置有传送带，位于传送带上方的上料架上设置有滑槽，所述滑槽正对清洗腔的位置设置有挡块，使其正对清洗腔的位置，所述输送机构包括支撑架和丝杆。本发明通过设置的输送机构和水循环过滤机构能够让元件在不同的清洗槽中进
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112570372 B
(45)授权公告日 2022.07.08
(21)申请号 202011332733.7 B08B 3/14 (2006.01)
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