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一种低温化学气相沉积制备石墨烯薄膜的方法.pdfVIP

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  • 2023-06-02 发布于四川
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一种低温化学气相沉积制备石墨烯薄膜的方法.pdf

    本发明公开了一种低温化学气相沉积制备石墨烯薄膜的方法，主要包括以下步骤：(1)粉体催化剂的制备；(2)金属基底表面清洗；(3)在保护性气氛下，对步骤(2)得到的金属基底进行退火处理；(4)引入气体碳源，同时用氙灯照射光催化剂表面，在低温条件下进行化学气相沉积；(5)步骤(4)结束后停止加热，快速降至室温即可获得石墨烯薄膜。相比于传统的化学气相沉积法制备石墨烯薄膜，本发明方法大幅降低了以甲烷等含碳物质为碳源、以铜等金属为生长基底的石墨烯化学气相沉积法生长温度，制备的产品均匀性较高，重复性好，适于单

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112575310 A (43)申请公布日 2021.03.30 (21)申请号 202011355645.9 (22)申请日 2020.11.27 (71)申请人 重庆大学 地址 40

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