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本发明提供一种光栅尺测量装置及测量方法，包括：光源、读头及光栅，读头包括第一反射单元和第二反射单元，第一反射单元和第二反射单元均包括至少两个第一反射元件和至少一个第二反射元件，光源发射的第一光束和第二光束由读头入射至所述光栅，经光栅衍射或反射及第一反射元件、第二反射元件反射后在光栅上的光斑位置至少有部分重叠，且经光栅衍射后沿同一方向出射。本发明可利用一维光栅实现二维位置测量，提高系统光学细分倍数，同时可补偿由于光栅和读头之间垂向运动带来的测量光斑偏离，保持测量光斑具有最佳有效信号，显著增大光栅尺
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112577431 B
(45)授权公告日 2022.02.08
(21)申请号 201910935450.2 G01D 5/26 (2006.01)
(22)申请日 2
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