原创力文档- 1、本文档共12页，其中可免费阅读11页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明公开一种薄膜制备设备以及薄膜制备方法，其包括：反应腔室；竖直设置在所述反应腔室内的第一注入管，设置有多个沿所述第一注入管依次排列的第一注入孔；设置在所述反应腔室内的第二注入管，包括沿竖直方向延伸的第一管段，设置有多个沿所述第一管段依次排列的多个第二注入孔；第二管段，其一端连通于所述第一管段的顶端、其另一端用于通入第一反应气体；其中，所述第一注入管的底端用于通入第一反应气体。采用这种薄膜制备设备在多个晶圆上生成薄膜，位于反应腔室上部的晶圆和位于反应腔室底部的晶圆其表面上生长出的薄膜的厚度趋于
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112575312 A
(43)申请公布日
2021.03.30
(21)申请号 20191
文档评论（0）