材料分析方法试卷A.docxVIP

PAGE PAGE 2 / 3 贵州大学 2009-2010 学年第二学期考试试卷 A 材料分析方法 一、名词解释（共 12 分,每小题 3 分） 相干散射、激发限、系统消光、结构因子、球差、景深、焦长、衍射衬度、暗场像、二次电子、化学位移 荧光辐射 倒易矢量 结构因子 明场像 二、填空题（共 27 分,每空 1 分） 用于衍射分析的 X 射线的波长范围为 。 波长和频率是描述 X 射线 性的物理参量，能量和动量则是描述 X 射线性的物理参量。 K?特征谱线是原子中 壳层的电子跃迁到 K 壳层产生的，它的强度约是 K?的倍。 已知 X 射线管是钴靶，应选择的滤波片材料是 。 当波长为 λ的 X 射线照射到晶体上发生衍射，相邻两个（hkl）晶面的波程差是 ，相邻两个（HKL）晶面的波程差是 。 面心立方结构晶体产生消光的晶面指数条件为 。 X 射线衍射仪测样时，测角仪的计数管支架转速与样品转速之比为 。 粉末法的厄瓦尔德图解法解释中,衍射圆锥的顶点代表试样所在位置,轴代表 ,母线代表 。 多晶体 X 射线衍射分析方法主要是 和 两种。 电磁透镜的像差中，可以控制或消除的是 和 。 透射电镜的成像衬度中，由样品不同部位的厚度和密度差别而形成的衬度称 为 ，由样品不同部位衍射效应不同而形成的衬度称为 。 薄膜样品制备过程中的最终减薄方法有 和 。 若扫描电镜的荧光屏尺寸 A =10