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本发明涉及真空镀膜设备技术领域,提出了一种磁铁旋转靶枪,包括设置在靶枪腔体内的由上至下依次设置的靶材、基板及磁控组件,磁控组件包括外圈磁铁、设置在外圈磁铁中心的中心磁铁及包覆外圈磁铁和中心磁铁的包覆层,增设了与磁控组件连接的驱动装置,驱动装置驱动磁控组件转动或者往复移动,基板包括上板及下板,上板与下板之间形成密封的冷却空腔,基板下方借助第一密封圈与靶枪腔体形成密封连接。通过上述技术方案,解决了现有技术中靶材刻蚀利用率低的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112575304 A
(43)申请公布日 2021.03.30
(21)申请号 202011536353.5
(22)申请日 2020.12.23
(71)申请人 长沙元戎科技有限责任公司
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