基于萘酰亚胺衍生物的荧光应力响应材料及其制备与应用.pdfVIP

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  • 2023-06-03 发布于四川
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基于萘酰亚胺衍生物的荧光应力响应材料及其制备与应用.pdf

本发明涉及一种基于萘酰亚胺衍生物的荧光应力响应材料及其制备与应用,材料具有式(Ⅰ)所示的结构式:其中,R为烷基。制备方法具体为:(a)取NI溶于乙酸中并进行加热反应,经第一次后处理得到NIP;(b)取步骤(a)得到的NIP、三苯胺‑4‑硼酸和四(三苯基膦)钯溶于N,N‑二甲基甲酰胺中,再加入碳酸钾溶液进行加热反应,经第二次后处理得到NITPA‑Phenol;(c)取步骤(b)得到的NITPA‑Phenol、4‑二甲氨基吡啶和N,N‑二环己基碳二亚胺溶于四氢呋喃中,再加入脂肪酸进行反应,经第三次

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112645877 B (45)授权公告日 2022.08.26 (21)申请号 202011523265.1 CN 105906624 A,2016.08.31 (22)申请日 202

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