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本申请公开了一种磁控溅射装置，包括设置于腔室内的靶材以及与所述靶材相对设置的待溅射基板；所述靶材为柔性氧化物靶材。在所述腔室中还设置有磁控组件和转动件，其中所述磁控组件用于产生磁场；所述转动件用于带动所述靶材运动。由于在溅射时，所述转动件能够带动所述靶材移动，从而提高氧化物薄膜的成膜均匀性和靶材的利用率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112626458 A
(43)申请公布日 2021.04.09
(21)申请号 202011442580.1
(22)申请日 2020.12.08
(71)申请人 深圳市华星光电半导体显示技术有
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