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一种纳米压印硬模板的清洗方法.pdfVIP

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  • 2023-06-03 发布于四川
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一种纳米压印硬模板的清洗方法.pdf

    本发明公开一种纳米压印硬模板的清洗方法，具体包括以下步骤：S1：将纳米压印硬模板浸泡于DHF溶液中；S2：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的DHF溶液；S3：利用SPM溶液去除纳米压印硬模板表面的有机物，SPM溶液为硫酸与双氧水的混合溶液；S4：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SPM溶液；S5：利用SC1溶液去除纳米压印硬模板表面的金属离子，SC1溶液为氨水、双氧水与水的混合溶液；S6：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SC1溶液；S7：利用SRD甩干机对纳米压印硬模板进行干燥处理。本发明可以有效的

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115770751 A (43)申请公布日 2023.03.10 (21)申请号 202211562943.4 (22)申请日 2022.12.07 (71)申请人 苏州光越微纳科技有

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