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用于校正基板上的不均匀图像图案的方法、计算机系统和非暂时性计算机可读介质.pdfVIP

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  • 2023-06-03 发布于四川
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用于校正基板上的不均匀图像图案的方法、计算机系统和非暂时性计算机可读介质.pdf

    公开一种与在制造工艺中将无掩模光刻图案施加到基板的能力有关的图像校正应用。本文所述的实施方式涉及软件应用平台，所述软件应用平台校正基板上的不均匀图像图案。应用平台方法包括：禁用DMD中的至少一整列镜，其中DMD具有多个列，每个列具有多个镜；将基板的第一部分曝光于第一电磁辐射范围；将基板的第二部分曝光于第二电磁辐射范围；并且重复将基板的第二部分曝光于第二范围，直至基板被完全地处理。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112650029 A (43)申请公布日 2021.04.13 (21)申请号 202011563493.1 (51)Int.Cl.

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