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本发明提供一种监控光刻机遮光片开口精度的标记及其使用方法，设有图形区域和遮光带的光罩；遮光带环绕于图形区域的四周；设置于遮光带内外边缘的标记；光刻机上的遮光片，遮光片将图形区域束缚其中用于控制光罩透光开口的大小；遮光带外边缘与图形区域的距离为光刻机台的精度规格L；精度规则L的范围为：M≤L≤N；位于遮光带的内边缘的标记与图形区域之间的距离为M/2；位于遮光带的所述外边缘的所述标记与图形区域之间的距离为N+100μm。本发明通过在遮光带上增加套刻精度标记，可以在线时时监控，节省了人力和机时；有效地
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112612178 A
(43)申请公布日 2021.04.06
(21)申请号 202011517587.5
(22)申请日 2020.12.21
(71)申请人 上海华力微电子有限公司
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