等离子体刻蚀装置及其边缘环.pdfVIP

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2023-06-03 发布于四川
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本发明提供一种等离子体刻蚀装置及其边缘环，边缘环采用复合材料，复合材料包括第一材料及位于第一材料中的第二材料，以通过第二材料减少边缘环表面积累的电荷量；本发明通过宽禁带复合材料，可提高电荷迁移速率，减少边缘环表面积累的电荷量；通过高导电率复合材料，可及时引流电荷，以降低静电吸附作用力，减弱边缘环表面吸附作用，减少边缘环表面积累的电荷量；通过P型复合材料或N型复合材料，可在外电场的作用下，使得边缘环表面的电荷与副产物之间形成同种电荷的排斥，以减少边缘环表面积累的电荷量；及时排出的副产物可减少清洗反

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112652515 A (43)申请公布日 2021.04.13 (21)申请号 202011428640.4 (22)申请日 2020.12.09 (71)申请人长江存储科技有限责任公司