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本发明涉及一种应变GeSiOI衬底及其制作方法。一种应变GeSiOI衬底包括由下至上依次堆叠的:硅衬底,第一氧化硅层,多个氮化硅分隔条;第二氧化硅层;Ge1‑xSix层。制作方法:制作支撑衬底:在第一硅衬底上依次沉积第一氧化硅层、氮化硅层;图案化所述氮化硅层形成多个分立的氮化硅分隔条,相邻分隔条之间形成沟槽;再形成第二氧化硅层,以填充沟槽并覆盖分隔条的上表面;制作施主衬底:在第二硅衬底上外延Ge1‑xSix层;将支撑衬底和施主衬底键合、减薄,获得应变GeSiOI衬底。本发明在支撑衬底而非施主衬底
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112635492 B
(45)授权公告日 2023.04.07
(21)申请号 202011393106.4 (51)Int.Cl.
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