OLED器件透明阴极及其制作方法.pdfVIP

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  • 2023-06-03 发布于四川
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一种OLED器件透明阴极及其制作方法,包括:采用原子层沉积方法在OLED器件表面直接沉积透明导电的阴极薄膜;所述原子层沉积方法制备时采用二乙基锌作为锌源材料,三甲基铝作为铝源原料以及双氧水作为氧源原料。有效避免了现有技术中的制备方法在OLED的透明阴极层领域存在工艺匹配度差或薄膜损伤的缺陷。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112652726 A (43)申请公布日 2021.04.13 (21)申请号 202011523819.8 (22)申请日 2020.12.22 (71)申请人 南京

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