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本发明公开了一种浸没流场的压力测量装置及压力测量方法，包括壳体和多个压力检测器，壳体具有模拟浸没光刻机中末端物镜的外形和尺寸，壳体具有朝向衬底的镜底面和朝向浸没控制单元的镜侧面，镜底面呈平面形状，镜侧面呈倾斜环形柱面形状；压力检测器的检测面与镜底面平齐。模拟浸没式光刻机中浸没流场的形状和浸液的流动参数，对浸没流场的压力进行测量，特别是对曝光光束传播路径上的浸没流场的压力进行测量，以检验和评估浸没控制单元的结构及流体供应和回收参数是否满足曝光要求。采用预先使用易溶气体填充测压孔的方法，避免压力检测
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112684673 A
(43)申请公布日 2021.04.20
(21)申请号 202011602370.4
(22)申请日 2020.12.29
(71)申请人 浙江启尔机电技术有限公司
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