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等离子体处理装置及等离子体处理方法.pdfVIP

等离子体处理装置及等离子体处理方法.pdf

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    本发明中公开的等离子体处理装置的基板支撑器具有保持边缘环的静电卡盘。静电卡盘包括第1电极及第2电极。对基板执行第1等离子体处理期间，在第1及第2电极分别设定彼此相同的电位及彼此不同的电位中的一种电位。对基板执行第2等离子体处理期间，在第1及第2电极分别设定另一种电位。在生成等离子体的状态下，第1电极及第2电极各自的电位从一种电位切换成另一种电位。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112687511 A (43)申请公布日 2021.04.20 (21)申请号 202011056120.5 (22)申请日 2020.09.30 (30)优先权数据 2019-1900

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