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晶须补强氧化锆基台.pdfVIP

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  • 2023-06-04 发布于四川
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晶须补强氧化锆基台.pdf

    本发明公开了一种晶须补强氧化锆基台，包括一体结构的氧化锆基台本体，氧化锆基台本体的中心处设有纵向贯通的内孔，氧化锆基台本体由上至下依次包括修复段、穿龈段和连接段，所述氧化锆基台本体的材料为晶须补强氧化锆，所述晶须补强氧化锆的原料包括主材料及添加剂，所述主材料按质量百分比计由氧化锆80‑99%和晶须1‑20%组成，所述添加剂按占晶须重量的百分比计包括：超细纳米氧化铝粉0.1‑1%，超细纳米氧化硅粉0‑0.1%。本发明通过脉冲电场导向的3D胶态分层成型工艺使晶须在晶须补强氧化锆材料中分布为定向分布和

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112691232 B (45)授权公告日 2022.05.17 (21)申请号 202011575681.6 A61L 27/54 (2006.01)

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