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一种图形化衬底、发光二极管及制备方法.pdfVIP

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  • 2023-06-04 发布于四川
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一种图形化衬底、发光二极管及制备方法.pdf

    本发明公开了一种图形化衬底、发光二极管及制备方法，在一实施例中，图形化衬底包括衬底以及形成在衬底表面上的若干个周期性紧密排布的图形结构，相邻的图形结构之间的最小距离小于或等于0.1μm；图形结构包括形成于衬底的表面的第一部分以及形成在第一部分上方的第二部分，第一部分包括圆柱部和围绕圆柱部均匀排布的第一突出部和第二突出部；第一突出部和第二突出部间隔设置，第一突出部的横截面积大于或等于第二突出部的横截面积。由此，本发明所述的图形化衬底及发光二级管能够有效降低磊晶面的面积和位错密度，提高发光效率；并能

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112701198 A (43)申请公布日 2021.04.23 (21)申请号 202011564591.7 (22)申请日 2020.12.25 (71)申请人 福建晶安光电有限公司

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