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- 2023-06-04 发布于四川
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本发明属于半导体技术领域,涉及一种具有反向阻断能力的薄势垒GaNHEMT器件。本发明中器件漏极分为两个部分,一部分是欧姆接触结构用于正向电流传导,另一部分是MIS结构用来实现反向阻断和减小反向泄漏电流。本发明采用了3‑6nm的薄AlGaN势垒层,避免了常规势垒中为实现零偏压时沟道2DEG的耗尽而刻蚀AlGaN势垒层造成刻蚀损伤。同时引入电荷恢复层来恢复薄势垒结构中的沟道2DEG密度,使器件具有较好的电流能力。本发明所提出的具有反向阻断能力的薄势垒GaNHEMT器件有着工艺简单,反向泄露电流小和耐
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116207128 A
(43)申请公布日 2023.06.02
(21)申请号 202310209979.2
(22)申请日 2023.03.07
(71)申请人 电子科技大学
地址 611731
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