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一种衬底的暴露表面的处理方法包含使用清扫气体清扫衬底处理系统的第一室和第二室。气体分配装置设置在第一室与第二室之间。该方法包含使处理气体流至第二室但不流至第一室，以在设置于第二室中的衬底支撑件上的衬底的表面上产生吸附层。该方法包含停止处理气体向第二室流动。该方法包含使清扫气体流动以清扫第一室和第二室。该方法包含在使清扫气体流至第一室时，在第一室中激励等离子体以产生亚稳的活化自由基物质，并经由气体分配装置将该亚稳的活化自由基物质输送至第二室以表面活化吸附层。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112673456 A
(43)申请公布日 2021.04.16
(21)申请号 201980059258.X (74)专利代理机构 上海胜康律师事务所 31263
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