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一种低温沉积CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片的方法.pdfVIP

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  • 2023-06-04 发布于四川
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一种低温沉积CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片的方法.pdf

    本发明涉及一种低温沉积CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片的方法，包括以下步骤：(1)制备聚晶金刚石复合片基底；(2)将化学气相沉积装置的反应腔室抽真空，通入由氢气与甲烷组成的混合气体，进行形核处理；(3)将聚晶金刚石复合片基底放入反应腔室中，通入由氢气、甲烷和二氧化碳组成的混合气体，进行化学气相沉积；(4)沉积完成后，关闭甲烷与二氧化碳，保持氢气流量不变，进行刻蚀处理，即得到低温沉积有CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片。与现有技术相比，本发明可以避免因高温高压条件下催化剂的促石墨化作用以及所引起

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112695293 A (43)申请公布日 2021.04.23 (21)申请号 202011504051.X (22)申请日 2020.12.17 (71)申请人 同济大学 地址 20

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