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- 2023-06-05 发布于四川
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本发明的半导体器件检查方法包括:第1照射步骤,其对被检查区域内的至少1个部位进行检查照射;第1输出步骤,其基于第1照射步骤而输出表示被检查区域的整体中有无缺陷部位的第1信息;第2照射步骤,其在基于第1信息判断为要进一步进行检查照射的情形时,对与第1照射步骤中已进行检查照射的部位不同的被检查区域内的至少1个部位进行检查照射;及第2输出步骤,其基于在第2照射步骤期间自半导体器件输出的输出信号,输出表示被检查区域的整体中有无缺陷部位的第2信息。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112752980 A
(43)申请公布日 2021.05.04
(21)申请号 201980063019.1 (74)专利代理机构 北京尚诚知识产权代理有限
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