前驱体制备系统以及制备方法.pdfVIP

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  • 2023-06-05 发布于四川
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本发明公开了一种前驱体制备系统以及制备方法,前驱体制备系统包括第一反应釜、第二反应釜、输送机构以及控制机构;输送机构配置为能够在制备前驱体的整个过程中持续地将第一釜体中的小颗粒晶核输送至第二釜体中;第一反应釜的第一反应腔室中的pH值大于第二反应釜第二反应腔室中的pH值;第一进料组件向第一反应腔室提供浆料的流量为a,第二进料组件向第二反应腔室提供浆料的流量为b,输送机构输送小颗粒晶核的流量为c,流量a为流量b的0.01~0.3倍,流量c等于流量a。本发明的前驱体制备系统能够使反应过程中的pH值保持

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112742325 A (43)申请公布日 2021.05.04 (21)申请号 202011495588.4 H01M 10/0525 (2010.01) (22)申请日

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