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- 2023-06-05 发布于四川
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本发明涉及光刻设备技术领域,公开一种导流均流装置。所述导流均流装置包括均流组件和导流组件,均流组件包括罩壳,罩壳安装于风机末端空间壁面上,导流组件设置于罩壳内,且罩壳的表面上开设有多个均流孔。风机出风从风机末端空间壁面流入罩壳内,并在导流组件的导流下,从多个均流孔中流出,使得该导流均流装置实现导流和均流的双重作用,保持风机末端静压腔压力和温度均匀,提高光路的均匀性,且提高换热效率,保护光刻设备中部件不受损坏,延长部件的使用寿命。本发明中的导流组件包括导流板,导流板角度可调地设置于风机末端空间壁面
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112748642 B
(45)授权公告日 2022.06.21
(21)申请号 201911056713.9 (51)Int.Cl.
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