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本发明涉及光场测量技术,具体涉及一种基于光场双色反射模型和全变分的高反光去除方法,首先对原始光场图像解码并得到多个视角的子孔径图像,运用自适应阈值分割算法提取中心子孔径图像中的高反光像素点。在RGB颜色空间内,使用最小二乘法对每个高反光像素点的多个视角进行空间线性拟合;通过双色反射模型DRM和TI分析,建立拟合的空间直线和DRM的关联,最终得到所对应拟合空间直线的截距项常量即为每个高反光像素点的漫反射颜色。经过遍历图像高反光像素点得到高光去除后的图像。将遮挡视为噪点,使用TV去噪模型去除图像纹理
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112712483 B
(45)授权公告日 2022.08.05
(21)申请号 202110049460.3 G06T 7/11 (2017.01)
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