原创力文档- 1、本文档共11页，其中可免费阅读10页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明的目的是提供一种可简便地设置与目标薄膜厚度对应的被处理基板的公转角速度和自转角速度的最佳值的成膜方法。本发明的成膜方法，其中在真空室(1)内，在同一平面内使被处理基板(Sw)绕公转轴(22)公转，并使被处理基板以被处理基板中心(Sc)为旋转中心自转，从成膜源(31、32)供给成膜材料在被处理基板表面形成规定的薄膜，所述成膜源配置在与自公转的被处理基板相对的真空室内的规定位置上,所述成膜方法包括设置工序，其中将形成的薄膜的目标薄膜厚度设为T，以一个公转周期中在基板上形成薄膜的薄膜厚度设为D，
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112771200 A
(43)申请公布日 2021.05.07
(21)申请号 201980062919.4 (74)专利代理机构 北京英特普罗知识产权代理
文档评论（0）