等离子体处理装置.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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本发明的目的是提供一种使等离子体处理的均匀性提高的等离子体处理装置。该等离子体处理装置利用用于生成等离子体的高频电力来将供给到腔室内的气体等离子体化,对基板进行等离子体处理,该等离子体处理装置具有:台,其以第一电极与第二电极分离的方式形成,该第一电极在上部载置基板,该第二电极在上部设置聚焦环且该第二电极设置于所述第一电极的周围;第一高频电源,其向所述第一电极施加主要用于吸引等离子体中的离子的第一高频电力;第二高频电源,其与所述第一高频电源独立地设置,向所述第二电极施加主要用于吸引等离子体中的离子

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112768335 A (43)申请公布日 2021.05.07 (21)申请号 202110070109.2 (22)申请日 2018.01.16 (30)优先权数据

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